UV光解除臭設備原理-光催化 

 

UV光解除臭也叫光催化除臭，其原理主要是紫外線照耀二氧化鈦，發(fā)生自由基將臭味分子分化，納米級銳鈦型二氧化鈦（TiO2），作為一種新的光催化半導體材料，日本已將其列為本世紀要點開展的新技術，被譽為當今世界上最先進的空氣凈化新技術近年來在我國也得到較廣泛應用。

 

在室溫下，當波長在253.7nm 以下的光量子照耀到納米級二氧化鈦顆粒上時，在價帶的電子被光量子所激起，躍遷到導帶構成自由電子，而在價帶構成一個帶正電的空穴，這樣就構成電子－空穴對。使用所發(fā)生的空穴的氧化及自由電子的復原才能，二氧化鈦和外表觸摸 的H2O，O2發(fā)生反應，發(fā)生氧化力極強的自由基，這些自由基可分化 簡直一切有機物質，將其所含的氫（H）和碳（C）變成水和二氧化碳。

 

泡沫鎳既有金屬鎳耐高溫、抗腐蝕、化學性質安穩(wěn)的特征，又具有泡沫共同的三維網(wǎng)狀結構，以它為基體，附載納米二氧化鈦開發(fā)而成的復合光催化抗菌泡沫金屬濾網(wǎng)承繼了泡沫鎳的一切長處，超越95%的孔隙率確保了杰出的空氣通透性，而在其包面散布均勻的光觸媒材料比外表積大，外表覆蓋率高，最大極限增大了與空氣和紫外線的觸摸面，加之泡沫金屬的三維特性，使得光催化‘反應腔’豐滿，確保了其光催化功率，然后提升了UV光解除臭功率。