光氧催化設(shè)備的***點(diǎn)介紹

 

光氧催化設(shè)備利用***殊的高能束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體，如氨、硫化氫、甲硫基氫、甲硫醇、甲基硫化物、二甲基二硫化物、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC、苯、甲苯和二甲苯分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物的分子鏈在高能紫外光束照射下降解為低分子化合物，如CO2和H2O。

 

惡臭氣體通過(guò)排氣設(shè)備輸入光氧催化設(shè)備后，凈化設(shè)備利用高能C波束和臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解和氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化為低分子化合物、水和二氧化碳，然后通過(guò)排氣管排放到室外。利用高能紫外光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸(DNA)，然后利用臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，達(dá)到除臭殺菌的目的。

 

光氧催化設(shè)備的***點(diǎn):

 

1.高除臭效率:揮發(fā)性有機(jī)化合物可快速去除。

 

2.無(wú)需添加任何物質(zhì):只需設(shè)置相應(yīng)的排氣管和排氣動(dòng)力，即可通過(guò)該設(shè)備對(duì)惡臭氣體進(jìn)行除臭、分解和凈化，無(wú)需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。

 

3.適應(yīng)性強(qiáng):能適應(yīng)高濃度和***氣量，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。

 

4.運(yùn)行成本低:該設(shè)備無(wú)機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音，不需要專人管理和日常維護(hù)。

 

5.無(wú)需預(yù)處理:濕度在30%-98%之間，PH值可以正常工作。

 

6.設(shè)備占地面積小，自重輕。

 

7.***質(zhì)進(jìn)口材料制造。