光氧催化過程的詳細說明過程

 

光氧催化設備:光催化氧化技術是在光化學氧化技術的基礎上發(fā)展起來的。光化學氧化技術是有機污染物在可見光或紫外光作用下氧化降解的反應過程。然而，由于反應條件的限制，光化學氧化降解往往不夠徹底，容易產(chǎn)生各種芳香族有機中間體，成為光化學氧化中需要克服的問題。通過與光催化氧化劑相結合，可以******提高光化學氧氣的效率。

 

根據(jù)光催化氧化劑的不同用途，可分為均相光催化氧化和非均相光催化氧化。

 

均相光催化降解以Fe2+或Fe3+和H2O2為介質，通過光助芬頓反應生成羥基自由基降解污染物。紫外線可以提高氧化反應的效果，是一種有效的催化劑。紫外/臭氧(/03)組合通過加速臭氧分解速率，增加羥基自由基生成速率，促進有機物形成***量活化分子，提高難降解有機污染物的處理效率。

 

非均相光催化降解是利用光照射一些具有能帶結構的半導體光催化劑，如二氧化鈦、氧化鋅、硫化鎘、WO3、三氧化二鍶、氧化鐵等。，這會誘導羥基自由基的產(chǎn)生。在水溶液中，水分子是半導電的。

 

在本體光催化劑的作用下，可以產(chǎn)生氧化能力強的羥基自由基，氧化分解各種有機物。將該技術應用于持久性有機污染物的處理可以取得******的效果，但并非所有的半導體材料都可以用作該技術的催化劑。

 

以CdS為例，它是一種高活性的半導體光催化劑，但容易發(fā)生光陽極腐蝕，在實際處理技術中并不實用。然而，二氧化鈦可以在高達387.5納米的波長下使用，這是廉價的，在***多數(shù)條件下不溶，耐光和無毒，因此二氧化鈦已被廣泛使用。