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UV光解技術(shù)和低溫等離子體技術(shù)之間的區(qū)別

  1,使用后的惡臭氣體排氣設(shè)備輸入凈化設(shè)備、凈化設(shè)備使用高能紫外線紫外線和臭氧氧化反應(yīng)的惡臭協(xié)同作用分解,使其惡臭物質(zhì)降解成低化合物,水和二氧化碳,再從外面通過排氣管。

  2,使用高能紫外線梁開裂惡臭細(xì)菌的鍵,細(xì)菌核酸(DNA),然后通過臭氧氧化反應(yīng),從而達(dá)到除臭的目的和細(xì)菌。

  UV光解技術(shù)***點:成本低、運行穩(wěn)定可靠,不需要***殊治療,但在廢氣處理速度是緩慢的,相比之下,低溫等離子體技術(shù)的低效率。

  低溫等離子體是物質(zhì)的***四后固體、液體和氣體,當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓,氣體擊穿和很快就生產(chǎn),包括電子、各種離子、原子和基。雖然溫度很高的放電過程中,但重粒子溫度很低,系統(tǒng)介紹了低溫的狀態(tài),所以稱為“低溫等離子體”。

  低溫等離子體降解污染物是使用這些高能電子、基等活性粒子和排氣污染物,污染物分解發(fā)生在很短的時間內(nèi),和隨后的反應(yīng)以達(dá)到污染物降解的目的。(注意:低溫等離子體相對于高溫等離子體,屬于正常運行。)高等離子體反應(yīng)區(qū)有豐富的材料,如高能電子、離子、基和激發(fā)態(tài),如排氣污染物可以與這些能量高的物質(zhì)反應(yīng),使污染物分解發(fā)生在很短的時間內(nèi),和隨后的反應(yīng)以達(dá)到的目的解釋的污染物。與傳統(tǒng)形式的電暈放電產(chǎn)生的低溫等離子體技術(shù)、放電等離子體的密度的電暈放電技術(shù)是1500次,這是傳統(tǒng)的工業(yè)廢氣低溫等離子體技術(shù)治理***約99%的以失敗告終。

  相比之下,中***目前常用的異味氣體處理方法,等離子體工業(yè)廢氣處理技術(shù)具有以下***點:低溫等離子體技術(shù)應(yīng)用于惡臭氣體處理,具有治療效果***,成本偏高,但是運營成本很低,無二次污染,運行穩(wěn)定,操作方便管理,開箱即用,等,即時可以處理廢氣,同時效率高,安全系數(shù)的低溫等離子體技術(shù)對要求很高。

  除臭設(shè)備,生物除臭設(shè)備,等離子除臭設(shè)備,UV光電除臭設(shè)備,活性炭除臭設(shè)備專利技術(shù),更節(jié)能,更環(huán)保