高頻等離子體炬有許多應(yīng)用程序,尤其是在等離子體凈化化工、冶金和光學(xué)材料。它也可以制備超導(dǎo)材料,比如使用高頻等離子體氫還原釩-硅(或釩-鍺),氯化鈮、鋁或鈮-鍺蒸汽在超導(dǎo)材料的制備。冶金、礦山企業(yè)在中***需要處理的鈦礦、釩渣、磷礦和工業(yè)耐火材料浪費(fèi)很多渣含有稀有材料,采用高頻等離子體炬是一個(gè)有前途的冶煉方法,提煉有用的金屬和稀有元素。高頻等離子體發(fā)生器輸出功率在0.5 ~ 1兆瓦,效率是50% ~ 75%,放電室中心溫度達(dá)到7000 ~ 7000。

　　低壓等離子發(fā)生器,低壓氣體放電裝置,通常由三部分組成:生產(chǎn)等離子電源,放電室、真空系統(tǒng)和工作氣體(或反應(yīng)氣體供應(yīng)系統(tǒng)。通常有四類:靜電放電裝置,高壓電暈放電裝置,高頻率(rf)排放裝置和微波放電裝置。固體表面或需要處理的聚合物薄膜層的襯底的表面放電中,通過(guò)等離子體處理。由于低壓等離子冷等離子體,當(dāng)氣壓約為133 ~ 13.3 mpa,電子溫度高達(dá)10000 k,和氣體溫度只有300,不燒壞矩陣,并有足夠的精力去表面處理。低壓等離子發(fā)生器已越來(lái)越廣泛應(yīng)用于等離子體聚合,制備的薄膜,蝕刻、清洗、和其它表面處理技術(shù)。成功的例子,比如:在半導(dǎo)體技術(shù),使用氟利昂等離子體干蝕刻,與離子鍍氮化鈦薄膜在金屬表面,等。自70年代以來(lái),低壓等離子體非金屬固體(如玻璃、紡織品、塑料、等)的表面處理和修改技術(shù)快速發(fā)展。

　　除臭設(shè)備,生物除臭設(shè)備,等離子除臭設(shè)備,UV光電除臭設(shè)備,活性炭除臭設(shè)備專利技術(shù)，更節(jié)能，更環(huán)保